LEE Flash ZT
ZT
产品信息
LEE Flash ZT, Zero Additional Mask MTP
LEE Flash ZT(ZT)具备车规电子要求的耐高温特性。特别适用于汽车的传感器、电源及模拟IC等的参数调整与数据储存。另外,因测试及制程时间短,所以也可达到降低成本的效益。在制程过程中不需要追加任何额外的光罩与制程步骤。ZT可支持约最高40奈米的工艺节点和10K次 P / E周期。
Major Features
- 具有在恶劣的汽车环境下可高温动作及保存的特性
- 读取动作只需微小电力
- 测试与制程时间短,有助于降低成本
- 可于标准的CMOS装置搭载既有的设计及IP
- 设计简单,不需追加光罩
规格示例
Item | Spec |
---|---|
Process platform | 180BCD |
Memory Size | 512 Bytes(4K bits) |
P/E Cycles | > 100k |
Supply Voltage | VDD 2.5V~5.5V |
Additional Masks | 0 |
Operation Temperature(Tj) | -40~150℃ |
Data Retention | 20years@-40~150℃ |
High Temperature Operation
ZT于125°C的高温下可连续使用20年。ZT在车规电子的应用量产已有相当好的评价
Large Program Size enables Short Testing Time
ZT因使用FN穿隧技术,在执行写入/抹除动作所消耗的电力非常微小,与一般使用热载子注入来达到写入/抹去动作的技术相比,穿隧技术只需使用其1/1,000,000的电流即可。这样可帮助缩短测试时间,同时也有利降低成本。
Low Cost
Short Baking Time
富提亚科技独有的内存结构可简化预测内存位寿命的过程,这样可缩短晶圆公司筛选芯片时的时间。
Zero Mask
因为当ZT使用在标准规格CMOS上时不需要额外变更或追加光罩,所以不会增加成本。
Field Programmability
富提亚科技的ZT可以让客户在交付产品时,或甚至在产品已在运作时,对NVM进行编程,以便微调或参数设定。
Track Record
Manufacturing status | Item |
---|---|
Mass Production | in several Japanese IDM |
Available on | HHGrace 180BCD |