LEE Flash ZT
ZT
產品資訊
LEE Flash ZT, Zero Additional Mask MTP
LEE Flash ZT(ZT)具備車規電子要求的耐高溫特性。特別適用於汽車的感測器、電源及類比IC等的參數調整與數據儲存。另外,因測試及製程時間短,所以也可達到降低成本的效益。在製程過程中不需要追加任何額外的光罩與製程步驟。ZT可支援約最高40奈米的工藝節點和10K次 P / E週期。
Major Features
- 具有在惡劣的汽車環境下可高溫動作及保存的特性
- 讀取動作只需微小電力
- 測試與製程時間短,有助於降低成本
- 可於標準的CMOS裝置搭載既有的設計及IP
- 設計簡單,不需追加光罩
規格示例
Item | Spec |
---|---|
Process platform | 180BCD |
Memory Size | 512 Bytes(4K bits) |
P/E Cycles | > 100k |
Supply Voltage | VDD 2.5V~5.5V |
Additional Masks | 0 |
Operation Temperature(Tj) | -40~150℃ |
Data Retention | 20years@-40~150℃ |
High Temperature Operation
ZT於125 °C的高溫下可連續使用20年。 ZT在車規電子的應用量產已有相當好的評價
Large Program Size enables Short Testing Time
ZT因使用FN穿隧技術,在執行寫入/抹除動作所消耗的電力非常微小,與一般使用熱載子注入來達到寫入/抹去動作的技術相比,穿隧技術只需使用其1/1,000,000的電流即可。這樣可幫助縮短測試時間,同時也有利降低成本。
Low Cost
Short Baking Time
富提亞科技獨有的記憶體結構可簡化預測記憶體位元壽命的過程,這樣可縮短晶圓公司篩選晶片時的時間。
Zero Mask
因為當ZT使用在標準規格CMOS上時不需要額外變更或追加光罩,所以不會增加成本。
Field Programmability
富提亞科技的ZT可以讓客戶在交付產品時,或甚至在產品已在運作時,對NVM進行編程,以便微調或參數設定。
Track Record
Manufacturing status | Item |
---|---|
Mass Production | in several Japanese IDM |
Available on | HHGrace 180BCD |